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专利库
专利名称:
采用化学气相沉积工艺在硅基体上制备超厚碳化硅梯度涂层的方法
专利类别:
发明
申请号:
申请日期:
20190606
专利号:
201910491081.2
第一发明人:
杜昊、刘厚盛、王吉强、杨颖、熊天英
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
20210108
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
状态:
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