薄膜材料与界面课题组-中国科学院金属研究所
联系我们  金属研究所  中国科学院
您现在的位置:在职职工 回到首页
刘鲁生
2022-11-22  |          【 】【打印】【关闭

  刘鲁生,男,工学硕士

  中国科学院金属研究所,高级工程师 硕士生导师

  1979年4月出生于黑龙江省漠河市

  联络方式

  电话:(024)23971983

  E-mail: lsliu@imr.ac.cn

  教育及工作经历

  2000年09月-2004年07月 沈阳建筑大学,学士

  2014年09月-2018年03月 沈阳建筑大学,硕士

  2004年07月-2010年05月 沈阳深瑞真空工业有限公司

  2010年05月-2014年06月 爱发科中北真空(沈阳)有限公司

  2014年06月-至今 中国科学院金属研究所

  研究方向

  主要从事金刚石薄膜材料制造装备和应用设备以及科研仪器的研制工作

  近期发表论文

    [1] Guangyu Yan, Yuhou Wu*, Daniel Cristeab, Feng Lu, Yibao Wang, Dehong Zhao, Mircea Tiereand, Lusheng Liu*, Machining performance of hard-brittle materials by multi-layer micro-nano crystalline diamond coated tools. Results in Physics, 13 (2019) 102303.

    [2] 刘鲁生等,金刚石薄膜连续制备的热丝化学气相沉积设备研制,真空,第57卷第6期,2020年11月,1-4页

    [3] Dan Shi#, Lusheng Liu#, Zhaofeng Zhai, Zhaofeng Zhai, Bin Chen, Zhigang Lu, Chuyan Zhang, Ziyao Yuan, Meiqi Zhou, Bing Yang, Nan Huang*, Xin Jiang*,Effect of oxygen terminated surface of boron-doped diamondthin-film electrode on seawater salinity sensing, Journal of Materials Science & Technology, 86 (2021) 1–10.

  [4] Ziyao Yuan#, Lusheng Liu#, Haozhe Song, Zhigang Lu, Bing Yang, Jiaji Xiong, Nan Huang*, Xin Jiang*, Improvement in the universality of high-performance CVD diamond coatings on different WC-Co substrates by introducing multilayered diamond/β-SiC composite, Diamond & Related Materials, 116 (2021) 108369.

    [5] 刘鲁生等,金刚石β-SiC复合多层结构涂层刀具制备和切削性能研究,工具技术,2025年59卷12期42-51页

  近期获得专利

    [1] 美国专利:Lusheng Liu etc,HFCVD equipment for continuous preparation of diamond film and coating method,Patent No:US11939339B2

    [2]刘鲁生等,一种硼掺杂金刚石电极污水处理实验装置及其操作方法,专利号: ZL2020 1030 3890.9

    [3]刘鲁生等,一种多功能金刚石薄膜的热丝化学气相沉积装置,专利号:ZL2018 2203 3983.5

    [4]刘鲁生等,金刚石薄膜连续制备使用的HFCVD设备及其镀膜方法,专利号:ZL 2019 0652 2012.5 

    [5]刘鲁生等,一种可变尺寸的高功率微波等离子体化学气相沉积设备偏压样品台,专利号:ZL2021 2293 2580.6

    [6]刘鲁生等,一种硼掺杂金刚石电极污水处理模组及其制作方法,专利号:ZL2022 1028 4858.X

    [7]刘鲁生等,一种用于金属表面纳米化的金刚石涂层刀具装置及其制备方法,专利号: ZL 2020 1045 6004.6

    [8]刘鲁生等,一种热丝CVD用钼电极自动清理装置及其使用方法,专利号:ZL 2019 1118 5908.3

    [9]刘鲁生等,一种环境模拟试验装置,专利号:ZL 2019 2113 2741.x

    [10]刘鲁生等,一种用于高纯材料生长的CVD管式炉,专利号:ZL 2020 2215 3709.9

  学术活动(近期国际国内会议报告及任职等)

  中国真空学会真空冶金专业委员会委员

  中国材料研究学会会员

  获奖情况

  2016年度SYNL技术服务奖

  2019年度国家环境技术进步二等奖

  2021年度中国科学院金属研究所优秀员工奖

  社会任职

  沈阳工业大学硕士研究生导师

  重要科研成果

  近五年主要从事薄膜材料制备装备和相关应用装置的开发研制工作,研发设计出系列化热丝法化学气相沉金刚石薄膜生长设备(简称HFCVD):根据科研实际需求研制出实验型HFCVD,根据科研成果转化需求研制了中试型HFCVD,根据科研成果转化生产需求研制出生产型HFCVD和连续工业化型HFCVD,上述具有自主知识产权的系列设备达到了国际同类设备领先水平,填补了国内该技术领域空白,为金刚石薄膜材料的产业化提供了装备基础。在金刚石薄膜材料应用领域,针对高浓度、剧毒、难降解有机废水治理上的技术难点,研制出基于硼掺杂金刚石电极的污水处理装置。 

金属基复合材料&特种焊接与加工研究团队-中国科学院金属研究所

金刚石基材料与表界面催化课题组

版权所有 中国科学院金属研究所 辽ICP备05005387号
地址: 沈阳市沈河区文化路72号 邮编: 110016 电话: 024-83970803