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铁电畴与缺陷交互作用研究获新进展
2016-08-16  |          【 】【打印】【关闭

  铁电畴壁与功能异质界面以及其它晶体学缺陷的交互作用将产生奇异的界面结构特性,直接影响相关微纳电子器件的研发和应用。因此,定量描述单胞尺度内铁电极化在畴壁这一共格界面处的矢量状态,构建由异质界面或晶体学缺陷调控的铁电极化矢量分布图谱具有重要科学意义。

  近来,刘颖同学等人利用像差校正电子显微技术对生长在SrTiO3 衬底上的PbTiO3 90°/180°畴与位错的交互作用进行了系统地研究,发现了由上述交互作用所导致的90°带电畴壁以及一些非稳定的畴组态。这种亚稳态畴壁会逐渐转化为正常的非带电畴壁,并伴随180°畴壁的湮灭以及局部a畴和c畴的反转。研究发现位于90°畴壁上的一种a[0-10]型位错,沿水平方向正应变的应变场偏离其原本延展方向45°,转而沿90°畴壁方向。

  这些研究结果有助于人们在原子尺度下认识铁电畴壁与晶体学缺陷之间的交互作用机制及其与之密切相关的铁电、压电特性,探索新型铁电界面效应及其动力学过程提供重要的结构信息,对基于铁电材料的纳米器件的设计与研发具有重要意义。相关研究结果近来发表在Advanced Mat erials Interfaces上。该期刊以首页插图的形式对上述工作做了重点介绍。

 

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材料界面及缺陷的电子显微学研究团队

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