中国科学院金属研究所
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离子减薄仪 Gatan 691
2015-05-15  |          【 】【打印】【关闭

 

  主要用途

  对半导体、金属(氧化物及合金)、陶瓷透射电镜样品进行离子减薄。

  主要参数

  减薄角度:-10°到+10°

  离子束能量:100V8.0KV

  样品旋转:16rpm连续可调

  压强:5×10-6托基本压力,8×10-5托工作压力

 

中国科学院金属研究所

材料界面及缺陷的电子显微学研究团队

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