主要用途

　　脉冲激光沉积系统在一定的低压气氛下，当一束强的激光以一定频率和会聚程度照射到陶瓷靶材上时，靶材表面就会被激光短时间内加热、熔化、气化直至变为等离子体，然后等离子体从靶向衬底传输，最后输运到衬底上的烧蚀物经凝聚、成核直至形成薄膜。

　　脉冲激光沉积系统用于钙钛矿等多元复杂氧化物薄膜的制备，尤其适用于高熔点、多组元及含有气体元素的复杂层状结构薄膜的生长，如钙钛矿基的光学晶体、铁电薄膜、多铁薄膜、超导薄膜等氧化物薄膜材料，以及高质量的金属/氧化物薄膜等复合材料薄膜。通过反射式高能电子衍射原位观测薄膜的表面生长情况，可精密控制薄膜的生长，使得相应的多层膜或超晶格达到原子尺度可控的外延生长。

　　主要参数

　　腔体真空：9x10^-9Torr

　　基片加热温度：850°C

　　基片尺寸：2英寸