制造商：美国NEOCERA

　　安装时间：2014.08

　　技术指标：

　　　　腔体真空：5×10^-9Torr

　　　　快速进样室：真空优于5×10^-7Torr，能够通过磁力杆传递样品以及靶材。

　　　　基片加热温度：850°C

　　　　基片尺寸：2英寸

　　　　靶材台：可同时安装6个1英寸或3个2英寸的靶。

　　　　高压RHEED：30keV RHEED电子枪可在200-500mTorr的氧压下操作。

　　功能：

　　　　用于钙钛矿等多元复杂氧化物薄膜的生长制备，可通过反射式高能电子衍射原位观测薄膜的表面生长情况，可精密控制薄膜的生长。

　　放置地点：李薰楼345室