脉冲激光沉积系统于近日安装调试完成，各项指标均达到预设要求。其主腔体背底真空优于5×10^-9 Torr，配备磁力杆基片及靶材进样室与相应装置、反射高能电子衍射仪，基片最高加热温度可达850℃，最多可同时装配6个靶材，自动化集成度高，操作方便。该套设备将用于研究团队钙钛矿等其他功能或金属薄膜样品的制备。