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团队一行8人参加2015年全国电子显微学学术年会
2015-10-21  |          【 】【打印】【关闭

  2015年全国电子显微学学术年会于20151013日至18日在四川省成都市召开,团队一行8人参加了此次会议。

  全国电子显微学学术年会每年举办一次,旨在促进国内电镜科技团体、科技工作者的交流与合作。共有600余位代表参加了此次会议,会议学术交流内容包括球差透射电子显微学及应用、原位显微学技术及应用、高分辨扫描电子显微学、微束分析、扫描探针显微镜、激光共聚焦显微学等。马秀良研究员应邀做了题为“铁电材料中的通量全闭合畴结构”的大会特邀报告。此外,参会的其他成员也分别在分会场做了学术报告,与同行进行了学术交流。

                                           

 

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材料界面及缺陷的电子显微学研究团队

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